戦後日本のデザイン創成期に主導的役割を果たし、後に制作の場を海外に求め、スイス、そしてアメリカに渡った片山利弘（1928～2013）。微細な形のコントロールによる視覚的な平面構成から巨大な建築空間での立体表現まで、デザイン、絵画、彫刻、そして公共空間へ領域を越えて活動した、稀有な造形作家の50年に及ぶ軌跡をたどる日本初の大規模展となる。

画像：片山利弘・作　和泉正敏・協力《正方形へ、光と石の対話》（大原美術館本館レリーフ彫刻）1991年

会期

2020年10月19日（月）-2020年12月19日（土）

時間

10:00-18:00（土曜日、特別開館日は17:00閉館）

休館日

日曜日・祝日

入館料

無料

会場

武蔵野美術大学美術館 展示室3

主催

武蔵野美術大学 美術館･図書館

監修

新島実（武蔵野美術大学 名誉教授）